| 【飾面泄爆墻案例】浙江陶特半導(dǎo)體材料有限公司年產(chǎn)5000噸高純ALD 、CVD前驅(qū)體材料生產(chǎn)項目 |
| 發(fā)布日期:2024-02-29 人氣:3225 |
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【飾面泄爆墻案例】浙江陶特半導(dǎo)體材料有限公司年產(chǎn)5000噸高純ALD 、CVD前驅(qū)體材料生產(chǎn)項目 浙江陶特半導(dǎo)體材料有限公司年產(chǎn)5000噸高純ALD 、CVD前驅(qū)體材料生產(chǎn)項目總投資約6.19億元,用地面積76.64畝。新建建筑面積40500平方米,引進(jìn)離子色譜儀、氦檢漏儀等進(jìn)口設(shè)備,購置產(chǎn)品純化生產(chǎn)線、產(chǎn)品合成生產(chǎn)線等國產(chǎn)設(shè)備,形成年產(chǎn)5000噸高純ALD、CVD前驅(qū)體材料的生產(chǎn)能力,項目建成后,預(yù)計可實現(xiàn)年產(chǎn)值133761萬元。 項目詳情 項目名稱:浙江陶特半導(dǎo)體材料有限公司年產(chǎn)5000噸高純ALD 、CVD前驅(qū)體材料生產(chǎn)項目 項目類型:化工廠房 使用厚度:9mm 應(yīng)用部位:泄爆墻體 |
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